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超純水生產線

放大字體  縮小字體 發布日期：2005-10-19  來源：-  作者：500 x 1500 像素
核心提示：主要用途:反滲透超純水設備 1、工藝流程1 適用電子超純水、制藥等。出水電阻率≥18MΩ. 2、工藝流程2 適用中、高壓鍋爐用水、制藥、化工，出水電阻率≥2MΩ. 3、工藝流程3 適用于電子、制藥、出水電阻率≥10MΩ. 4、反滲透純凈水主機
超純水生產線
 
關鍵詞： 生產線
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